ASML a livré à Intel le premier système de lithographie à haute NA – Ordinateur – Actualités

Le constructeur néerlandais de machines à puces ASML a lancé le premier exemplaire de son produit à haute NAultraviolet extrêmesystèmes de lithographie fournis au fabricant de puces Intel. Les machines EUV à haute NA devraient permettre de produire des semi-conducteurs plus petits et plus rapides.

Les systèmes EUV à haute NA coûtent plus de 300 millions de dollars chacun et sont expédiés dans 250 caisses individuelles. Les machines devraient être utilisées dans la production commerciale de puces à partir de 2026 ou 2027. D’ici 2027 ou 2028, ASML souhaite fournir chaque année vingt systèmes à haute NA.

ASML a partagé une photo de la première livraison sur le réseau social X. Intel est le premier, mais ce n’est pas le seul à avoir passé une commande de systèmes à haute NA auprès de la société ASML basée à Veldhoven. TSMC, Samsung, SK hynix et Micron, entre autres, ont commandé les nouvelles machines EUV, rapporte Reuters.

Les systèmes à haute NA constituent la prochaine génération de machines EUV d’ASML, avec une ouverture numérique plus élevée pour augmenter la densité des puces. À terme, l’hyper-NA devrait suivre, un système doté d’une ouverture numérique encore plus élevée pour produire des puces encore plus petites. Plus tôt cette année, Tweakers s’est entretenu avec le CTO Martin van den Brink des objectifs futurs d’ASML.